基本属性
- 拼音字母zui xiao pu guang liang
- 拼音首字母zxpgl
- 注音符号ㄗㄨㄟ ㄒㄧㄠ ㄆㄨ ㄍㄨㄤ ㄌㄧㄤ
扩展释义
最小曝光量,完成下述作用所必需的光学辐照(能够产生光化学反应的电磁辐射)的总累积能量:(1)使给定厚度的胶膜恰好完全溶解复制一个正性光学掩模版;(2)使给定厚度抗蚀剂胶膜恰好不溶解复制一个负性光学掩模版。
「最小曝光量」是汉语中常见词语。本文从读音、释义、出处等方面为您权威解读。拼音:zuì xiǎo pù guāng liàng,注音:ㄗㄨㄟˋ ㄒㄧㄠˇ ㄆㄨˋ ㄍㄨㄤ ㄌㄧㄤˋ。
最小曝光量,完成下述作用所必需的光学辐照(能够产生光化学反应的电磁辐射)的总累积能量:(1)使给定厚度的胶膜恰好完全溶解复制一个正性光学掩模版;(2)使给定厚度抗蚀剂胶膜恰好不溶解复制一个负性光学掩模版。