基本属性
- 拼音字母guang yan mo
- 拼音首字母gym
- 注音符号ㄍㄨㄤ ㄧㄢ ㄇㄛ
扩展释义
在半导体制造的整个流程中,其中一部分就是从版图到晶圆(wafer)制造中间的一个过程,即光掩膜或称光罩(mask)制造。这一部分是流程衔接的关键部分,是流程中造价最高的一部分,也是限制最小线宽的瓶颈之一。
「光掩膜」是汉语中常见词语。本文从读音、释义、出处等方面为您权威解读。拼音:guāng yǎn mó,注音:ㄍㄨㄤ ㄧㄢˇ ㄇㄛˊ。
在半导体制造的整个流程中,其中一部分就是从版图到晶圆(wafer)制造中间的一个过程,即光掩膜或称光罩(mask)制造。这一部分是流程衔接的关键部分,是流程中造价最高的一部分,也是限制最小线宽的瓶颈之一。